(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222069291.2 (22)申请日 2022.08.08 (73)专利权人 宜兴市创联自动化设备有限公司 地址 214200 江苏省无锡市宜兴 市屺亭街 道环保生产基地 (72)发明人 杨任梓　 (74)专利代理 机构 无锡市天宇知识产权代理事 务所(普通 合伙) 32208 专利代理师 高坤明 (51)Int.Cl. H05K 5/02(2006.01) F16F 15/067(2006.01) (54)实用新型名称 一种脱硫处理系统用具有稳定机构的控制 柜 (57)摘要 本实用新型公开了一种脱硫处理系统用具 有稳定机构 的控制柜， 包括控制柜， 所述控制柜 的下端设置有上减震块， 所述上减震块的下方设 置有下减震块， 所述下减震块的上端设置有三组 等距分布的支撑滑筒， 且每组支撑滑筒均设置有 两个， 所述支撑滑筒的内部均滑动设置有支撑圆 筒块， 且支撑圆筒块的一端均延伸至支撑滑筒的 外部， 且支撑圆筒块位于支 撑滑筒外部的一端均 与上减震块固定连接， 所述上减震块上端面的两 侧均开设有滑槽， 且滑槽均与上减震块的内部相 连通。 该脱硫处理系统用具有稳定机构的控制柜 通过稳定机构的缓冲可以对减小摇晃的程度， 同 时可以方便的与稳定机构 进行固定， 使其进行安 装时较为方便 。 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 CN 218042089 U 2022.12.13 CN 218042089 U 1.一种脱硫处理系统用具有稳定机构的控制柜， 包括控制柜 （1） ， 所述控制柜 （1） 的下 端设置有上减震块 （2） ， 所述上减震块 （2） 的下方设置有下减震块 （3） ， 所述下减震块 （3） 的 上端设置有三组等距分布的支撑滑筒 （14） ， 且每组支撑滑筒 （14） 均设置有两个， 所述支撑 滑筒 （14） 的内部均滑动设置有支撑圆筒块 （13） ， 且支撑圆筒块 （13） 的一端均延伸至支撑滑 筒 （14） 的外部， 且支撑 圆筒块 （13） 位于支撑滑筒 （14） 外部的一端均与上减震块 （2） 固定连 接， 所述上减震块 （2） 上端面的两侧均开设有滑槽 （4） ， 且滑槽 （4） 均与上减震块 （2） 的内部 相连通， 其特 征在于： 还包括双螺纹传动杆 （5） ， 其转动设置在 所述上减震块 （2） 内部， 所述双螺纹传动杆 （5） 的两侧均通过螺纹转动安装有滑 块 （6） ， 所述滑 块 （6） 的一端均延伸至滑槽 （4） 的外部， 且滑 块 （6） 均与滑槽 （4） 滑动配合， 所述上减震块 （2） 的一侧转动设置有摇杆 （12） ， 且摇杆 （12） 与 双螺纹传动杆 （5） 通过 联轴器传动连接； 还包括缓冲盒 （7） ， 其通过螺栓固定设置在所述滑块 （6） 位于滑槽 （4） 外部一端的上端， 所述缓冲 盒 （7） 的内部滑动设置有导 向缓冲块 （9） ， 且导 向缓冲块 （9） 的一端延伸至缓冲 盒 （7） 的外 部； 还包括滑杆 （16） ， 其设置在 所述下减震块 （3） 的内部， 所述滑杆 （16） 的两端均滑动设置 有挤压块 （17） ， 且滑杆 （16） 均贯穿挤压块 （17） ， 所述挤压块 （17） 与上减震块 （2） 之间均设置 有连接块 （19） ， 且连接块 （19） 均 与挤压块 （17） 和上减震块 （2） 通过铰链活动连接 。 2.根据权利要求1所述的一种 脱硫处理系统用具有稳定机构的控制 柜， 其特征在于： 所 述支撑圆筒块 （13） 位于支撑滑筒 （14） 内部的一端均设置有第一弹簧 （15） 。 3.根据权利要求1所述的一种 脱硫处理系统用具有稳定机构的控制 柜， 其特征在于： 所 述挤压块 （17） 与下减震块 （3） 之间均设置有第二弹簧 （18） ， 且滑杆 （16） 均贯穿第二弹簧 （18） 。 4.根据权利要求1所述的一种 脱硫处理系统用具有稳定机构的控制 柜， 其特征在于： 所 述导向缓冲块 （9） 位于缓冲盒 （7） 内部的一端均设置有碟形弹簧 （8） 。 5.根据权利要求1所述的一种 脱硫处理系统用具有稳定机构的控制 柜， 其特征在于： 所 述导向缓冲块 （9） 位于缓冲盒 （7） 外 部的一端均粘连固定有橡胶软块 （10） 。 6.根据权利要求1所述的一种 脱硫处理系统用具有稳定机构的控制 柜， 其特征在于： 所 述双螺纹传动杆 （5） 的下端开设有滑轨 （1 1） ， 且滑轨 （1 1） 均与滑块 （6） 滑动配合。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218042089 U 2一种脱硫处理系统用具有稳定机构的控制柜 技术领域 [0001]本实用新型涉及控制柜技术领域， 具体为一种脱硫处理系统用具有稳定机构的控 制柜。 背景技术 [0002]脱硫处理泛指燃烧前脱去燃料中的硫分以及烟道气排放前的去硫过程， 脱硫处理 系统中常用到控制柜进行元器件的保护， 其是脱硫处理系统中重要的组成部分， 若发生地 震等使柜体剧烈摇晃的外力时， 容易使控制柜 内部元件发生脱离， 故需要稳定机构使控制 柜稳定并对外力进行缓冲吸 收， 从而保护内部的元器件。 [0003]现有申请号为CN212587914U的中国专利公开了一种PLC控制的脱硫控制柜， 括壳 体， 壳体的内部左右两侧 壁均通过两个固定块固定连接有导向环， 两个导向环的内部均开 设有导向轨道， 两个导向轨道的内壁均滑动连接有多个滑块， 多个滑块两两之间均固定连 接有安装板， 安装板的侧壁开设有多个安装孔， 滑块的上端开设有外螺纹， 滑 块的上端通过 螺纹转动连接有固定螺母， 壳体的上端开设有开口且开口处固定连通有散热壳， 壳体的底 部上端固定连接有器具盒， 壳体的内部上表面固定连接有风机 。 [0004]上述方案虽然可以方便人们对控制柜内电子设备的移动、 更换和安装， 提高施工 人员的工作效率， 方便人们使用， 但是其缺少稳定机构， 无法保证外力使控制柜摇晃时控制 柜内部元器件的稳定， 进而有 可能会导致元器件的脱离， 使控制箱无法正常的工作， 因此不 满足现有的需求， 对此我们提出了一种脱硫处 理系统用具有稳定 机构的控制柜。 实用新型内容 [0005]本实用新型的目的在于提供一种脱硫处理系统用具有稳定机构的控制柜， 以解决 上述背景技术中提出的控制柜受到外力导致摇晃时缺少稳定机构导致内部元器件容易脱 落的问题。 [0006]为实现上述目的， 本实用新型提供如下技术方案： 一种脱硫处理系统用具有稳定 机构的控制柜， 包括控制柜， 所述控制柜的下端设置有 上减震块， 所述上减震块的下方设置 有下减震块， 所述下减震块的上端设置有三组等距分布的支撑滑筒， 且每组支撑滑筒均设 置有两个， 所述支撑滑筒的内部均滑动设置有支撑圆筒块， 且支撑圆筒块的一端均延伸至 支撑滑筒的外部， 且支撑圆筒块位于支撑滑筒外部的一端均与上减震块固定连接， 所述上 减震块上端面的两侧均开设有滑槽， 且滑槽均 与上减震块的内部相连通； [0007]还包括双螺纹传动杆， 其转动设置在所述上减震块内部， 所述双螺纹传动杆的两 侧均通过螺纹转动安装有滑块， 所述滑块的一端均延伸至滑槽的外部， 且滑块均与滑槽滑 动配合， 所述上减震块的一侧 转动设置有摇杆， 且摇杆与双螺纹传动杆通过联轴器传动连 接； [0008]还包括缓冲盒， 其通过螺栓固定设置在所述滑块位于滑槽外部一端的上端， 所述 缓冲盒的内部滑动设置有导向缓冲块， 且导向缓冲块的一端延伸至缓冲盒的外 部；说　明　书 1/4 页 3 CN 218042089 U 3