(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222251674.1 (22)申请日 2022.08.25 (73)专利权人 深圳惠科新材 料有限公司 地址 518000 广东省深圳市宝安区石岩街 道石龙社区工业二路1号惠科工业园 厂房2栋310 (72)发明人 高青有　陈磊　周季贵　黄建仁　 尹卫华　 (74)专利代理 机构 深圳市联鼎知识产权代理有 限公司 4 4232 专利代理师 刘冰 (51)Int.Cl. B01J 19/00(2006.01) B01J 4/00(2006.01) C01G 3/10(2006.01)C25D 1/04(2006.01) B01D 29/03(2006.01) B01D 35/30(2006.01) B01D 29/94(2006.01) (54)实用新型名称 溶铜设备和铜箔制备系统 (57)摘要 本申请提供了一种溶铜设备和铜箔制备系 统。 其中， 溶铜设备包括： 罐体、 承载板、 过滤板、 喷淋头和进气管， 罐体围设形成溶解腔， 承载板 设于溶解腔内， 承载板用于承载金属铜， 过滤板 设于溶解腔内， 且位于承载板的下方， 承载板和 过滤板之间间隔设置形成清理腔， 罐体的侧壁开 设有至少一个清理口， 清理口连通清理腔， 喷淋 头设于溶解腔内， 且位于承载板的上方， 喷淋头 用于喷洒溶解液， 进气管位于过滤板的下方， 进 气管用于充入 溶解金属 铜的反应气体。 本申请的 技术方案能够使反应气体顺利与回收的铜箔接 触， 保证化学反应 速率， 避免溶解 化学反应终止 。 权利要求书1页 说明书8页 附图6页 CN 217940151 U 2022.12.02 CN 217940151 U 1.一种溶铜设备， 其特 征在于， 所述溶铜设备包括： 罐体， 所述罐体围设形成溶解腔； 承载板， 所述承载板设于所述溶解腔内， 所述承载板用于承载 金属铜； 过滤板， 所述过滤板设于所述溶解腔内， 且位于所述承载板的下方， 所述承载板和所述 过滤板之间间隔设置形成清理腔， 所述罐体的侧 壁开设有至少一个清理口， 所述清理口连 通所述清理腔； 喷淋头， 所述喷淋头设于所述溶解腔内， 且位于所述承载板的上方， 所述喷淋头用于喷 洒溶解液； 以及 进气管， 所述进气管位于所述过滤板的下方， 所述进气管用于充入溶解金属铜的反应 气体。 2.根据权利要求1所述的溶铜设备， 其特征在于， 所述溶铜设备还包括可视窗， 所述可 视窗转动设置 于所述清理口， 以打开或关闭所述清理口。 3.根据权利要求2所述的溶铜设备， 其特征在于， 所述可视窗包括窗框和透明板， 所述 窗框转动连接 于所述清理口 的边缘， 所述透明板嵌设于所述窗框内。 4.根据权利要求1至3中任一项所述的溶铜设备， 其特征在于， 所述承载板的表面设置 多个第一通孔， 所述过滤板的表 面设置多个第二通孔， 所述第一通孔的开孔面积为S1， 所述 第二通孔的开孔面积为S2， 则满足： S1≥S2。 5.根据权利要求1至3中任一项所述的溶铜设备， 其特征在于， 所述承载板的表面设置 多个第一通孔， 所述过滤板的表 面设置多个第二通孔， 所述第一通孔的开孔面积为S1， 所述 第二通孔的开孔面积为S2， 则满足： S1≥5S2。 6.根据权利要求4所述的溶铜设备， 其特征在于， 所述第二通孔的直径为D， 则满足D≤ 40mm。 7.根据权利要求1所述的溶铜设备， 其特征在于， 所述承载板和所述过滤板之间的高度 距离为H1， 所述清理口 的高度为H2， 则满足： H1/2≤H2≤H1。 8.根据权利要求1所述的溶铜设备， 其特征在于， 所述溶铜设备还包括加强板， 所述加 强板设置于所述承载板的下方， 并抵接于所述承载板的下表面， 所述加强板的板面垂直于 所述承载板的下表面， 其中： 所述加强板固定 于所述罐体的内壁 面； 或 所述溶铜设备包括支撑柱， 所述支撑柱的一端连接所述罐体的底面， 另一端穿设所述 过滤板， 并向所述承载板延伸， 所述加强板连接所述支撑柱的另一端。 9.根据权利要求8所述的溶铜设备， 其特征在于， 所述加强板设有多个， 多个所述加强 板分布于所述承载板的下表面， 所述清理口设置有多个， 两相邻的所述加强板之间设置一 所述清理口。 10.一种铜箔制备系统， 其特征在于， 所述铜箔制备系统包括生箔机组和如权利要求1 至9中任一项所述的溶铜设备， 所述溶铜设备还包括溢流管， 所述溢流管设于所述罐体， 并 连通所述溶解腔， 所述溢流管连通所述溶解腔的端口为溢流口， 所述溢流口位于所述过滤 板的下方， 所述溢流管远离所述溶铜 设备的一端连接所述生箔机组， 所述生箔机组用于电 解所述溢流管流出的含有铜离 子的溶液， 以生成铜箔。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217940151 U 2溶铜设备和铜箔制备系统 技术领域 [0001]本申请涉及铜箔生产技 术领域， 特别涉及一种溶铜设备和铜箔制备系统。 背景技术 [0002]溶解回收的铜箔过程中， 铜箔中可能存在一些杂物， 这些杂物难以溶解。 在长期进 行回收铜箔的溶解过程中， 这些难溶杂物会堆积在承载板的表面， 对由下向上穿过承载板 的反应气 体形成封堵。 而在溶解回收的铜箔时， 氧气是一种参与溶解化学反应的重要气 体， 承载板的表面一旦被封堵， 氧气无法穿过承载板， 氧气无法接触到铜箔， 这样在溶解铜箔的 化学反应中会缺少 重要的氧气参与， 由此导致铜箔溶解生产工作进展缓慢， 化学反应速率 下降， 严重时会导 致化学反应终止 。 实用新型内容 [0003]本申请的一个目的在于提供一种溶铜设备和铜箔制备系统， 能够使反应气体顺利 与回收的铜箔接触， 保证化学反应速率， 避免溶解 化学反应终止 。 [0004]根据本申请的一个方面， 本申请提供一种溶铜设备， 所述溶铜设备包括： [0005]罐体， 所述罐体围设形成溶解腔； [0006]承载板， 所述承载板设于所述溶解腔内， 所述承载板用于承载 金属铜； [0007]过滤板， 所述过滤板设于所述溶解腔内， 且位于所述承载板的下方， 所述承载板和 所述过滤板之间间隔设置形成清理腔， 所述罐体的侧 壁开设有至少一个清理口， 所述清理 口连通所述清理腔； [0008]喷淋头， 所述喷淋头设于所述溶解腔内， 且位于所述承载板的上方， 所述喷淋头用 于喷洒溶解液； 以及 [0009]进气管， 所述进气管位于所述过滤板 的下方， 所述进气管用于充入溶解金属铜的 反应气体。 [0010]在其中一个方面， 所述溶铜设备还包括可视窗， 所述可视窗转动设置于所述清理 口， 以打开或关闭所述清理口。 [0011]在其中一个方面， 所述可视窗包括窗框和透明板， 所述窗框转动连接于所述清理 口的边缘， 所述透明板嵌设于所述窗框内。 [0012]在其中一个方面， 所述承载板 的表面设置多个第一通孔， 所述过滤板 的表面设置 多个第二通孔， 所述第一通孔的开孔面积为S1， 所述第二通孔的开孔面积为S2， 则满足： S1 ≥S2。 [0013]在其中一个方面， 所述承载板 的表面设置多个第一通孔， 所述过滤板 的表面设置 多个第二通孔， 所述第一通孔的开孔面积为S1， 所述第二通孔的开孔面积为S2， 则满足： S1 ≥5S2。 [0014]在其中一个方面， 所述第二 通孔的直径为D， 则满足D≤40m m。 [0015]在其中一个方面， 所述承载板和所述过滤板之间的高度距离为H1， 所述清理口的说　明　书 1/8 页 3 CN 217940151 U 3