(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111607762.4 (22)申请日 2021.12.24 (71)申请人 上海联影医疗科技股份有限公司 地址 201807 上海市嘉定区城北路2 258号 (72)发明人 何鎏春　 (74)专利代理 机构 武汉智嘉联合知识产权代理 事务所(普通 合伙) 42231 代理人 张璐 (51)Int.Cl. G06T 11/00(2006.01) G06N 20/00(2019.01) (54)发明名称 散射校正方法、 装置、 电子设备及存 储介质 (57)摘要 本发明提供了一种散射校正方法、 装置、 电 子设备及存储介质， 其方法包 括： 基于PET数据的 能谱信息， 获得至少两个数据子集； 根据所述至 少两个数据子集 以及预设的散射估计模型确定 初步散射校正数据。 本发明根据至少两个数据子 集以及预设的散射估计模型即可确定初步散射 校正数据， 减少了模型估计散射校正所需的迭代 过程， 提高了初步散射校正数据的获取速度， 从 而提高了 散射校正效率。 权利要求书2页 说明书8页 附图5页 CN 114332273 A 2022.04.12 CN 114332273 A 1.一种散射校正方法， 其特 征在于， 包括： 基于PET数据的能谱信息， 获得至少两个数据子集； 根据所述至少两个数据子集以及预设的散射估计模型确定初步散射校正数据。 2.根据权利要求1所述的散射校正方法， 其特征在于， 所述基于PET数据的能谱信息， 获 得至少两个数据子集， 包括： 确定能量甄别上限值、 能量甄别下限值、 至少一个第一能量甄别阈值以及至少一个第 二能量甄别阈值； 根据所述能量甄别上限值、 能量甄别下限值、 至少一个第一能量甄别阈值以及至少一 个第二能量 甄别阈值从所述PET数据的能谱信息中获得 所述至少两个数据子集。 3.根据权利要求1所述的散射校正方法， 其特征在于， 所述至少两个数据子集包括第 一 数据子集和第二数据子集； 所述 根据所述至少两个数据子集确定初步散射校正数据， 包括： 确定所述第一数据子集中符合事 件的事件计数量； 根据所述事 件计数量以及所述预设的散射估计模型确定所述初步散射校正数据。 4.根据权利要求1所述的散射校正方法， 其特征在于， 在确定所述初步散射校正数据之 后， 还包括： 基于预设的散射估计模型获得估计散射校正数据， 并基于所述估计散射校正数据对所 述初步散射校正数据进行优化， 生成优化散射校正数据。 5.根据权利要求1所述的散射校正方法， 其特征在于， 在确定所述初步散射校正数据之 后， 还包括： 根据所述初步散射校正数据和预设的图像重建算法， 得到放 射性活度分布图； 获取衰减信 息分布图， 并根据 所述衰减信 息分布图和所述放射性活度分布图对所述初 步散射校正数据进行优化， 生成优化散射校正数据。 6.根据权利要求1所述的散射校正方法， 其特征在于， 在确定所述初步散射校正数据之 后， 还包括： 根据所述初步散射校正数据和预设的图像重建算法， 得到放 射性活度分布图； 构建深度学习 网络， 基于所述深度学习 网络对所述放射性活度分布图进行优化， 生成 优化放射性活度分布图； 获取衰减信 息分布图， 并根据 所述衰减信 息分布图和所述优化放射性活度分布图对所 述初步散射校正数据进行优化， 生成优化散射校正数据。 7.根据权利要求5所述的散射校正方法， 其特征在于， 所述根据 所述衰减信 息分布图和 所述放射性活度分布图对所述初步散射校正数据进行优化， 生成优化散射校正数据， 包括： 根据所述衰减信息分布图和所述放射性活度分布图对所述初步散射校正数据进行优 化， 生成过渡散射校正数据； 判断对所述初步散射校正数据的优化次数 是否大于阈值优化次数； 若所述优化 次数大于所述阈值优化 次数， 则所述过渡散射校正数据为所述优化散射校 正数据； 若所述优化 次数小于或等于所述阈值优化 次数， 则根据 所述衰减信 息分布图和所述放 射性活度分布图对所述过渡散射校正数据进行优化。 8.一种散射校正装置， 其特 征在于， 包括：权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114332273 A 2数据子集获取 单元， 用于基于PET数据的能谱信息， 获得至少两个数据子集； 散射校正单元， 用于根据所述至少两个数据子集以及预设的散射估计模型确定初步散 射校正数据。 9.一种电子设备， 其特 征在于， 包括存 储器和处 理器， 其中， 所述存储器， 用于存 储程序； 所述处理器， 与所述存储器耦合， 用于执行所述存储器 中存储的所述程序， 以实现上述 权利要求1至7中任意 一项所述的散射校正方法中的步骤。 10.一种计算机可读存储介质， 其特征在于， 用于存储计算机可读取的程序或指令， 所 述程序或指令被处理器执行时能够实现上述权利要求1至7中任意一项所述的散射校正方 法中的步骤。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114332273 A 3