(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210096352.6 (22)申请日 2022.01.26 (71)申请人 中国科学院微电子 研究所 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 (72)发明人 沙鹏飞　吴晓斌　王魁波　马翔宇　 尹皓玉　方旭晨　谢婉露　李慧　 韩晓泉　罗艳　马赫　谭芳蕊　 (74)专利代理 机构 北京辰权知识产权代理有限 公司 11619 专利代理师 郎志涛 (51)Int.Cl. G01N 21/01(2006.01) G01N 21/958(2006.01) (54)发明名称 掩模缺陷检测装置、 掩模缺陷检测系统以及 光刻机系统 (57)摘要 本发明涉及一种掩模缺陷检测装置、 掩模缺 陷检测系统以及光刻机系统， 其中掩模缺陷检测 装置包括： 壳体， 壳体内部具有真空腔； 掩模， 设 于真空腔内； 平面反射镜， 设于真空腔内且位于 掩模的一侧的， 平面反射镜用于反射极紫外光束 并使其垂直照射在掩模上； 退相干反射组件， 设 于真空腔内， 退相干反射组件用于将射入真空腔 的极紫外光束退相干后反射至平 面反射镜； 成像 装置， 成像装置具有成像平面； 反射光采集装置， 用于采集由掩模上的缺陷反射出的极紫外光束 并输出至成像平面， 在成像平面生成亮点。 本发 明提出的掩模缺陷检测装置可以采用以新型粒 子加速器EUV光源生成的具有较高的输出功率的 极紫外光， 提高了掩 模缺陷检测的产率。 权利要求书2页 说明书7页 附图3页 CN 114563348 A 2022.05.31 CN 114563348 A 1.一种掩 模缺陷检测装置， 其特 征在于， 所述掩 模缺陷检测装置包括： 壳体， 所述壳体 内部具有真空腔， 待检测的掩模设于所述真空腔内， 所述壳体上设有供 极紫外光束穿过的射入口和射出口； 平面反射镜， 设于所述真空腔内且位于所述掩模的一侧的， 所述平面反射镜用于反射 极紫外光束并使其垂直 地照射在所述掩 模上； 退相干反射组件， 对应所述射入口且设于所述真空腔内， 所述退相干反射组件用于将 射入所述真空腔的极紫外光束退相干后反射至所述平面反射镜； 成像装置， 设于所述 射出口上， 所述成像装置具有成像平面； 反射光采集装置， 设于所述平面反射镜背离所述掩模的一侧， 所述反射光采集装置用 于采集由所述掩模上的缺陷反射出的极紫外光束并输出至所述成像平面， 在所述成像平面 生成亮点。 2.根据权利要求1所述的掩 模缺陷检测装置， 其特 征在于， 所述退相干反射组件 包括： 至少一个退相干反射镜， 所述退相干反射镜包括多个子镜面， 各所述子镜面的朝向一 致， 极紫外光束经多个所述子镜面反射出多个子光束， 且任意相邻的两个所述子光束的光 程差大于相干 长度。 3.根据权利要求2所述的掩 模缺陷检测装置， 其特 征在于， 多个所述子 镜面沿预设方向呈阶梯状分布。 4.根据权利要求2或3所述的掩 模缺陷检测装置， 其特 征在于， 所述多个子镜面的镜面类型为平面、 内凹的球面、 不规则形状和微机电可变形反射镜 中的至少一种。 5.根据权利要求1所述的掩 模缺陷检测装置， 其特 征在于， 所述反射 光采集装置为史瓦西透 镜； 所述成像装置为基于闪烁体的可 见光波段C CD相机或EUV波段C CD相机。 6.根据权利要求1所述的掩模缺陷检测装置， 其特征在于， 所述掩模缺陷检测装置还包 括： 驱动装置， 设于所述真空腔内， 所述驱动装置用于承载所述掩模， 并能够驱动所述掩模 在预设平面上移动， 所述预设平面与所述平面反射镜反射出的极紫外光束垂直； 隔振平台， 用于承载 所述壳体。 7.根据权利要求1所述的掩模缺陷检测装置， 其特征在于， 所述掩模缺陷检测装置还包 括： 光束传播管道， 与所述 射入口连通， 所述 光束传播管道用于极紫外光束的传播； 光束整形装置， 设于所述光束传播管道上， 所述光束整形装置用于将极紫外光束的直 径整形至预设尺寸； 四爪狭缝装置， 设于所述射入口和所述光束整形装置之间的所述光束传播管道上， 所 述四爪狭缝装置用于对穿过其的极紫外光束的直径 尺寸进行微调； 法兰， 设于所述四爪狭缝装置和所述 光束整形装置之间的光束传播管道上。 8.根据权利要求1所述的掩 模缺陷检测装置， 其特 征在于， 所述预设尺寸的取值范围为： 10 0～1000um。 9.一种掩 模缺陷检测系统， 其特 征在于， 所述掩 模缺陷检测系统包括：权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114563348 A 2多个如权利要求1至8中任一项所述的掩 模缺陷检测装置； 极紫外光发射装置， 所述极紫外光发射装置设有光束输出管道， 所述极紫外光发射装 置通过所述光束输出 管道输出极紫外光束； 分光装置， 所述分光装置的一端与所述光束输出管道连通， 另一端设置多个子光束输 出管道， 每个所述掩模缺陷检测装置的光束传播管道与一个所述子光束输出管道连通， 所 述分光装置用于将所述极紫外光发射装置输出的极紫外光束分割后分别输送至每个所述 掩模缺陷检测装置 。 10.根据权利要求9所述的掩 模缺陷检测系统， 其特 征在于， 极紫外光发射装置为稳态微聚束EUV光源或自由电子 激光EUV光源。 11.一种光刻机系统， 其特 征在于， 所述 光刻机系统包括： 如权利要求9所述的掩 模缺陷检测系统； 多个光刻机， 每个所述光刻机均与 所述掩模缺陷检测系统中的一个子光束输出管道连 通， 所述掩模缺陷检测系统中的极紫外光发射装置通过分光装置向所述光刻机供给极紫外 光束。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114563348 A 3