(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211353896.2 (22)申请日 2022.11.01 (71)申请人 山东申华光学科技有限公司 地址 255000 山东省淄博市高新区青龙山 路9009号仪器仪表产业园23-D号楼南 区2层 (72)发明人 李志华　林申旺　陈小雄　郑文杰　 (74)专利代理 机构 青岛致嘉知识产权代理事务 所(普通合伙) 3723 6 专利代理师 马明月 (51)Int.Cl. G01D 21/02(2006.01) C23C 14/54(2006.01) (54)发明名称 一种镀膜机 镀膜的监测预警方法及系统 (57)摘要 本发明提供了一种镀膜机镀膜的监测预警 方法及系统， 涉及数字处理技术领域， 方法包括： 根据数据采集装置， 获取目标基片的基片表面信 息、 基片位置信息和基片角度信息， 输入镀膜监 测模型中， 生成镀膜监测结果； 获取目标镀膜机 中用于进行镀膜的镀膜材料 组分； 按照镀膜材料 组分进行镀膜均匀性分析， 获取成膜均匀指标； 通过对目标镀膜机的基片放置结构进行分析， 获 取镀膜稳定指标； 根据基材镀膜指标、 成膜均匀 指标和镀膜稳定指标进行匹配度分析， 输出匹配 度分析结果， 生成镀膜预警信息。 解决镀膜控制 参数的调整精度低的技术问题， 达到多维度进行 匹配度分析， 提高镀膜控制参数的调整精度， 同 步进行监测预 警， 实现镀膜加工的智能化监测的 技术效果。 权利要求书2页 说明书8页 附图2页 CN 115406489 A 2022.11.29 CN 115406489 A 1.一种镀膜机镀膜的监测预警方法， 其特征在于， 所述方法应用于镀膜机镀膜监测预 警系统， 所述系统与数据采集装置通信连接， 所述方法包括： 根据所述数据采集装置， 获取目标基片的基片表面信息、 基片位置信息和基片角度信 息； 将所述基片表面信息、 基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中， 根据所述 镀膜监测模型， 生成镀膜监测结果， 其中， 所述镀膜监测结果 为基材镀膜指标； 获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材 料组分； 按照所述镀膜材 料组分进行镀膜均匀性分析， 获取成膜均匀指标； 通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析， 获取镀膜稳定指标； 根据所述基材镀膜指标、 所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析， 输 出匹配度分析 结果； 根据所述匹配度分析 结果， 生成镀膜预警信息 。 2.如权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述输出匹配度分析 结果， 方法包括： 将所述基材镀膜指标、 所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标输入匹配度分析模型 中； 根据所述匹配度分析模型进行分析， 获取匹配度 数据集， 其中， 所述匹配度数据集包括 所述基材镀膜指标与所述成膜均匀指标 的基材‑成膜匹配度、 所述成膜均匀指标和所述镀 膜稳定指标的成膜 ‑镀膜匹配度、 所述基材镀膜指标和所述镀膜稳定指标的基材 ‑镀膜匹配 度； 根据所述基材 ‑成膜匹配度、 所述成膜 ‑镀膜匹配度和所述基材 ‑镀膜匹配度， 输出所述 匹配度分析 结果。 3.如权利要求2所述的方法， 其特征在于， 所述根据所述匹配度分析结果， 生成镀膜预 警信息， 方法还 包括： 获取预设匹配度数据集， 包括第一预设匹配度、 第二预设匹配度和第三预设匹配度； 根据所述基材 ‑成膜匹配度、 所述成膜 ‑镀膜匹配度和所述基材 ‑镀膜匹配度分别与所 述第一预设匹配度、 所述第二预设匹配度和所述第三预设匹配度进 行判断， 获取判断结果， 包括匹配不成功的结果和匹配成功的结果； 若所述判断结果 为匹配不成功的结果， 生成所述镀膜预警信息 。 4.如权利要求3所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 若所述基材 ‑成膜匹配度 大于等于所述第一预设匹配度、 所述成膜 ‑镀膜匹配度 大于等 于所述第二预设匹配度、 且所述基材 ‑镀膜匹配度大于等于所述第三预设匹配度， 获取匹配 成功的结果； 当处于匹配成功的结果时， 对所述目标基片进行镀膜偏差监测调整。 5.如权利要求4所述的方法， 其特征在于， 所述对所述目标基片进行镀膜偏差监测调 整， 方法包括： 通过对所述目标基片进行镀膜偏差监测， 获取镀膜偏差度； 根据所述镀膜偏差度， 获取偏差控制参数； 将所述偏差控制参数发送至所述目标镀膜机的控制系统终端， 根据所述目标镀膜机的 控制系统终端， 下发偏差调整指令；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115406489 A 2根据所述偏差调整指令对所述目标基片的镀膜操作进行偏差调整。 6.如权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 获取所述目标镀膜机的镀膜 环境信息； 根据所述镀膜 环境信息进行影响因子识别， 输出多个 影响因子； 以所述多个 影响因子， 搭建环境自动监测模型； 根据所述环境自动 监测模型对所述目标基片的镀膜过程进行环境监测， 生成环境预警 信息。 7.如权利要求5所述的方法， 其特 征在于， 方法还 包括： 若所述镀膜偏差度处于预设镀膜偏差度阈值中， 获取成品检测指令； 根据所述成品检测指令， 控制所述数据采集装置对镀膜成品进行成膜贴合度检测和表 面气泡检测， 以成膜贴合度检测结果和表面气泡检测结果进行计算， 输出镀膜成品质量。 8.一种镀膜机 镀膜的监测预警系统， 其特 征在于， 所述系统包括： 信息获取单元， 所述信息获取单元用于根据数据采集装置， 获取目标基片的基片表面 信息、 基片位置信息和基片角度信息； 信息输入单元， 所述信息输入单元用于将所述基片表面信息、 基片位置信息和基片角 度信息输入镀膜监测模型中， 根据所述镀膜监测模型， 生成镀膜监测结果， 其中， 所述镀膜 监测结果 为基材镀膜指标； 材料组分获取单元， 所述材料组分获取单元用于获取目标镀膜机 中用于进行镀膜的镀 膜材料组分； 均匀性分析单元， 所述均匀性分析单元用于按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分 析， 获取成膜均匀指标； 结构分析单元， 所述结构分析单元用于通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分 析， 获取镀膜稳定指标； 匹配度分析单元， 所述匹配度分析单元用于根据所述基材镀膜指标、 所述成膜均匀指 标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析， 输出匹配度分析 结果； 预警信息生成单元， 所述预警信息生成单元用于根据所述匹配度分析结果， 生成镀膜 预警信息 。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115406489 A 3