(19)国家知识产权局 (12)发明 专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202210965737.1 (22)申请日 2022.08.12 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 115049735 A (43)申请公布日 2022.09.13 (73)专利权人 季华实验室 地址 528200 广东省佛山市南海区桂城街 道环岛南路28号 (72)发明人 杨远达　邱呈溶　赵旭东　 (74)专利代理 机构 佛山市海融科创知识产权代 理事务所(普通 合伙) 44377 专利代理师 许家裕 (51)Int.Cl. G06T 7/73(2017.01) G06T 7/62(2017.01)G06V 10/25(2022.01) G06V 10/26(2022.01) B25J 9/16(2006.01) (56)对比文件 CN 113569819 A,2021.10.2 9 US 2006046168 A1,20 06.03.02 审查员 谭岳峰 (54)发明名称 一种掩膜优化处理方法、 装置、 电子设备及 存储介质 (57)摘要 本申请属于图像处理技术领域， 公开了一种 掩膜优化处理方法、 装置、 电子设备及存储介质， 通过获取平行四边形物体的待优化的实际掩膜 和对应的标准掩膜； 对所述实际掩膜进行过滤处 理， 以去除最大连通域以外的连通域， 得到第一 掩膜； 调整所述标准掩膜的标准连通域的位姿 得 到第二掩膜， 以使所述第二掩膜与所述第一掩膜 的匹配度最高； 获取所述标准连通域的第二长轴 斜率和第二 短轴斜率； 根据所述第二长轴斜率和 所述第二短轴斜率把所述第一掩膜的所述最大 连通域修正为平行四边形连通域， 得到优化掩 膜； 从而可改善已生成的掩膜的质量， 有利于提 高机械臂抓取物体的可靠性。 权利要求书2页 说明书15页 附图5页 CN 115049735 B 2022.11.08 CN 115049735 B 1.一种掩膜优化处理方法， 用于对平行四边形物体的已生成的实际掩膜进行优化处 理， 其特征在于， 包括 步骤： A1.获取平行四边形物体的待优化的实际掩膜和对应的标准掩膜； A2.对所述实际掩膜进行 过滤处理， 以去除最大 连通域以外的连通 域， 得到第一掩膜； A3.调整所述标准掩膜 的标准连通域的位置和转动角度得到第二掩膜， 以使所述第二 掩膜与所述第一掩膜的匹配度最高； A4.获取所述标准连通 域的第二长轴斜 率和第二短轴斜 率； A5.根据所述第二长轴斜率和所述第二短轴斜率把所述第 一掩膜的所述最大连通域修 正为平行四边形 连通域， 得到优化掩膜。 2.根据权利要求1所述的掩膜优化处 理方法， 其特 征在于， 步骤A 2包括： 获取所述实际掩膜中各 连通域的面积； 针对所述实际掩膜中各连通域， 计算除所述最大连通域以外的所有连通域的总面积与 所述最大连通域的面积的比值； 若所述比值不大于预设比例阈值， 则去除所述实际掩膜中除所述最大连通域以外的所 有连通域， 得到所述第一掩膜； 若所述比值大于所述预设比例阈值， 则判定所述实际掩膜不可用， 并终止优化 流程。 3.根据权利要求1所述的掩膜优化处 理方法， 其特 征在于， 步骤A3包括： 分多次对所述标准掩膜中的所述标准连通域进行位置调整， 并在每个位置处对所述标 准连通域进行多角度旋转， 得到多个候选掩膜； 计算各所述候选掩膜与所述第一掩膜的匹配度； 根据计算结果， 从所述 候选掩膜中选取 所述第二掩膜。 4.根据权利要求1所述的掩膜优化处 理方法， 其特 征在于， 步骤A4包括： 对所述标准连通 域的至少一个长边进行直线拟合， 得到对应的第二长轴直线公式； 根据所述第二长轴直线公式获取 所述第二长轴斜 率； 对所述标准连通 域的至少一个短边进行直线拟合， 得到对应的第二短轴直线公式； 根据所述第二短轴直线公式获取 所述第二短轴斜 率。 5.根据权利要求1所述的掩膜优化处 理方法， 其特 征在于， 步骤A5包括： 根据所述第 二长轴斜率获取第 一特征斜率， 并根据 所述第二短轴斜率获取第 二特征斜 率； 利用具有所述第 一特征斜率的第 一直线在所述第 一掩膜中进行平移扫 掠， 以生成第 一 面积变化曲线； 所述第一面积变化曲线表示所述最大连通域被所述第一直线扫过的面积随 所述第一 直线移动而变化的情况； 利用具有所述第 二特征斜率的第 二直线在所述第 一掩膜中进行平移扫 掠， 以生成第 二 面积变化曲线； 所述第二面积变化曲线表示所述最大连通域被所述第二直线扫过的面积随 所述第二 直线移动而变化的情况； 根据所述第一面积变化曲线确定与所述最大连通域的其中两个理想边界线对应的第 一特征直线和第二特 征直线； 根据所述第二面积变化曲线确定与所述最大连通域的另外两个理想边界线对应的第 三特征直线和第四特 征直线；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115049735 B 2以所述第一特征直线、 所述第二特征直线、 所述第三特征直线和所述第 四特征直线共 同围成的平行四边形区域 替换所述第一掩膜中的所述 最大连通域， 得到所述优化掩膜。 6.根据权利要求5所述的掩膜优化处理方法， 其特征在于， 所述根据所述第 二长轴斜率 获取第一特 征斜率， 并根据所述第二短轴斜 率获取第二特 征斜率的步骤 包括： 获取所述最大连通域的第一长轴斜 率和第一短轴斜 率； 计算所述第一长轴斜率和所述第二长轴斜率的平均值或加权平均值作为所述第一特 征斜率； 计算所述第一短轴斜率和所述第二短轴斜率的平均值或加权平均值作为所述第二特 征斜率。 7.根据权利要求5所述的掩膜优化处理方法， 其特征在于， 所述根据所述第 一面积变化 曲线确定与所述最大连通域的其中两个理想边界线对应的第一特征直线和第二特征直线 的步骤包括： 识别所述第一 面积变化曲线的两个第一 斜率突变点； 分别以所述第一直线移动至与两个所述第一斜率突变点对应的位置时形成的直线作 为所述第一特 征直线和所述第二特 征直线； 所述根据所述第二面积变化曲线确定与所述最大连通域的另外两个理想边界线对应 的第三特 征直线和第四特 征直线的步骤 包括： 识别所述第二 面积变化曲线的两个第二 斜率突变点； 分别以所述第二直线移动至与两个所述第二斜率突变点对应的位置时形成的直线作 为所述第三特 征直线和所述第四特 征直线。 8.一种掩膜优化处理装置， 用于对平行四边形物体的已生成的实际掩膜进行优化处 理， 其特征在于， 包括： 第一获取模块， 用于获取平行四边形物体的待优化的实际掩膜和对应的标准掩膜； 过滤模块， 用于对所述实际掩膜进行过滤处理， 以去除最大连通域以外的连通域， 得到 第一掩膜； 调整模块， 用于调整所述标准掩膜的标准连通域的位置和转动角度得到第二掩膜， 以 使所述第二掩膜与所述第一掩膜的匹配度最高； 第二获取模块， 用于获取 所述标准连通 域的第二长轴斜 率和第二短轴斜 率； 修正模块， 用于根据 所述第二长轴斜率和所述第 二短轴斜率把所述第 一掩膜的所述最 大连通域修正为平行四边形 连通域， 得到优化掩膜。 9.一种电子设备， 其特征在于， 包括处理器和存储器， 所述存储器存储有所述处理器可 执行的计算机程序， 所述处理器执行所述计算机程序时， 运行如权利要求 1‑7任一项所述掩 膜优化处 理方法中的步骤。 10.一种存储介质， 其上存储有计算机程序， 其特征在于， 所述计算机程序被处理器执 行时运行如权利要求1 ‑7任一项所述掩膜优化处 理方法中的步骤。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115049735 B 3