行业标准网
(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210619009.5 (22)申请日 2022.05.30 (71)申请人 浙江大学 地址 310027 浙江省杭州市西湖区浙大路 38号 申请人 西湖大学 (72)发明人 武雅婷 储涛 郑小睿 尚鸿鹏  (74)专利代理 机构 北京清亦华知识产权代理事 务所(普通 合伙) 11201 专利代理师 罗岚 (51)Int.Cl. G06F 30/20(2020.01) B23K 26/36(2014.01) G02B 6/13(2006.01) (54)发明名称 工艺误差的补偿方法及 装置、 电子设备和存 储介质 (57)摘要 本发明公开了一种工艺误差的补偿方法及 装置、 电子设备和存储介质, 涉及半导体技术领 域。 基于预设仿真模型确定待处理器件包层折射 率的目标改变量, 所述待处理器件为存在工艺误 差的器件, 根据所述包层折射率的目标改变量确 定飞秒激光二次加工所采用的目标参量, 根据所 述目标参量对 所述飞秒激光进行设置, 并基于设 置后的飞秒激光对所述待处理器件进行二次加 工, 以对所述工艺误差进行补偿。 根据待处理器 件的尺寸误差或性能误差确定包层折射率的目 标改变量后, 基于包层折射率的目标改变量所对 应的飞秒 激光的目标参量, 执行基于飞秒激光对 待处理器件进行二次加工, 通过改变包层折射 率, 补偿工艺 误差, 可有效改善 器件的性能。 权利要求书2页 说明书10页 附图5页 CN 115146444 A 2022.10.04 CN 115146444 A 1.一种工艺 误差的补偿方法, 其特 征在于, 包括: 基于预设仿真模型确定待处理器件包层折射率的目标改变量, 所述待处理器件为存在 工艺误差的器件; 根据所述包层折 射率的目标改变量确定飞秒激光 二次加工所采用的目标参 量; 根据所述目标参量对所述飞秒激光进行设置, 并基于设置后的飞秒激光对所述待处理 器件进行二次加工, 以对所述工艺 误差进行补偿。 2.根据权利要求1所述的补偿方法, 其特征在于, 所述基于预设仿真模型确定待处理器 件包层折射率的目标改变量, 所述方法还 包括: 将所述待处理器件的属性信息、 尺寸误差、 性能误差输入预设仿真模型, 其中, 所述属 性信息包括: 包层、 芯层、 埋氧层、 衬底的材质及厚度, 器件结构及组成, 器件尺寸的至少一 种; 由所述预设仿真模型根据所述属性信息与尺寸误差、 性能误差, 确定实现补偿时包层 的目标折 射率, 其中, 所述 性能与待处 理器件波导中传输模式的有效折 射率相关; 根据所述目标折 射率及包层 初始折射率, 计算所述包层折 射率的目标改变量。 3.根据权利要求2所述的补偿方法, 其特征在于, 当所述待处理器件为微环器件时, 基 于预设仿真模型确定待处 理器件包层折射率的目标改变量包括: 获取所述待处理器件的尺寸误差及谐振波长初始值, 其中, 所述谐振波长初始值为未 经过飞秒激光执 行二次加工前测试 所得的谐振波长; 计算谐振波长目标值与所述谐振波长初始值的偏移差值; 其中, 所述谐振波长目标值 为微环谐振波长的设计值; 将所述偏移差值 根据预设仿真模型转换为所述包层折 射率的目标改变量。 4.根据权利要求1所述的补偿方法, 其特征在于, 在所述根据所述包层折射率的目标改 变量确定飞秒激光 二次加工所采用的目标参 量之前, 所述方法包括: 对训练用器件 采用控制变量的方式, 对 包层折射率的改变量及训练参 量进行训练; 根据训练结果 生成包层折 射率改变量与飞秒激光 参量的预设规 律曲线; 其中, 所述飞秒激光参量包括波长、 功率、 相对焦点位置、 移动速度以及被打击区域的 范围、 打击形状中的至少一种。 5.根据权利要求4所述的补偿方法, 其特征在于, 所述根据 所述包层折射率的目标改变 量确定飞秒激光 二次加工所采用的目标参 量包括: 在所述预设规 律曲线中查找所述包层折 射率的目标改变量; 在所述预设规 律曲线查找所述目标改变量对应的目标参 量。 6.一种工艺 误差的补偿装置, 其特 征在于, 包括: 第一确定单 元, 用于基于预设仿真模型确定待处 理器件的包层折 射率的目标改变量; 第二确定单元, 用于根据所述包层折射率的目标改变量确定飞秒激光二 次加工所采用 的目标参 量; 设置单元, 用于根据所述目标参 量对所述飞秒激光进行设置; 加工单元, 用于基于设置后的飞秒激光对所述待处理器件进行二次加工, 以对所述工 艺误差进行补偿。 7.根据权利要求6所述的补偿装置, 其特 征在于, 所述第一确定单 元包括:权 利 要 求 书 1/2 页 2 CN 115146444 A 2输入模块, 用于将所述待处理器件的属性信息、 尺寸误差、 性能误差输入预设仿真模 型, 其中, 所述属性信息包括: 包层、 芯层、 埋氧层、 衬底的材质及厚度, 器件结构及组成, 器 件尺寸中的至少一种; 确定模块, 用于由所述预设仿真模型根据所述属性信息、 尺寸误差、 性能误差, 确定包 层的目标折 射率, 其中, 所述 性能与待处 理器件波导中传输模式的有效折 射率相关; 第一计算模块, 用于根据所述包层的目标折射率及包层初始折射率, 计算所述包层折 射率的目标改变量。 8.一种电子设备, 其特 征在于, 包括: 至少一个处理器; 以及与所述至少一个处理器通信连接的存储器; 其中, 所述存储器存 储有可被所述至少一个处理器执行 的指令, 所述指令被所述至少一个处理器执行, 以使所 述至少一个处 理器能够执 行权利要求1 ‑5中任一项所述的方法。 9.一种存储有计算机指令的非瞬时计算机可读存储介质, 其特征在于, 所述计算机指 令用于使所述计算机执 行根据权利要求1 ‑5中任一项所述的方法。 10.一种计算机程序产品, 其特征在于, 包括计算机程序, 所述计算机程序在被所述至 少一个处 理器执行时实现根据权利要求1 ‑5中任一项所述的方法。权 利 要 求 书 2/2 页 3 CN 115146444 A 3

.PDF文档 专利 工艺误差的补偿方法及装置、电子设备和存储介质

文档预览
中文文档 18 页 50 下载 1000 浏览 0 评论 309 收藏 3.0分
温馨提示:本文档共18页,可预览 3 页,如浏览全部内容或当前文档出现乱码,可开通会员下载原始文档
专利 工艺误差的补偿方法及装置、电子设备和存储介质 第 1 页 专利 工艺误差的补偿方法及装置、电子设备和存储介质 第 2 页 专利 工艺误差的补偿方法及装置、电子设备和存储介质 第 3 页
下载文档到电脑,方便使用
本文档由 人生无常 于 2024-03-18 11:51:56上传分享
友情链接
站内资源均来自网友分享或网络收集整理,若无意中侵犯到您的权利,敬请联系我们微信(点击查看客服),我们将及时删除相关资源。