(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210616447.6 (22)申请日 2022.06.01 (66)本国优先权数据 202210524130.X 2022.05.14 CN (71)申请人 东方晶源微电子科技(北京)有限公 司 地址 100176 北京市大兴区北京经济技 术 开发区经海四路15 6号院12号楼 (72)发明人 张生睿　 (74)专利代理 机构 深圳市智享知识产权代理有 限公司 4 4361 专利代理师 罗芬梅 (51)Int.Cl. G03F 1/36(2012.01) G03F 7/20(2006.01)G06F 30/20(2020.01) (54)发明名称 一种光学掩模修正模 型优化构建方法、 装置 及计算机设备 (57)摘要 本发明涉及计算光刻技术领域， 特别涉及一 种光学掩模修正模型的优化构建方法， 方法包括 以下步骤： S0： 获取掩模版图的多个特征尺寸和 亚分辨率辅助图形的特征数据并进行特征数据 进行预处理， 得到拟合数据； S1： 根据特征尺寸进 行OPC建模， 得到初 始OPC模型； S2： 根据 拟合数据 对初始OPC模型进行优化， 得到优化OPC模型。 本 发明提供的对传统OPC模型进行了优化， 引入了 亚分辨率辅助图形的特征数据， 可以使得优化 OPC模型可以更便捷、 准确地判断亚分辨率辅助 图形是否印出， 以便于对亚分辨率辅助图形进行 调整。 权利要求书2页 说明书7页 附图6页 CN 115268204 A 2022.11.01 CN 115268204 A 1.一种光学掩 模修正模型的优化构建方法， 其特 征在于： 所述方法包括以下步骤： S0： 获取掩模版图的特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并对所述特征数据进行 预处理， 得到拟合数据； S1： 根据所述特 征尺寸进行OPC建模， 得到初始OPC模型； S2： 根据所述拟合数据对所述初始OPC模型进行优化， 得到优化OPC模型。 2.如权利 要求1所述的方法， 其特征在于： 所述初始OPC模型包含初始计量平面， 步骤S2 中以所述初始计量平面 为基础， 对所述OPC模型进行优化。 3.如权利要求1所述的方法， 其特征在于： 所述特征数据包括含有少量亚分辨率辅助图 形印出的测试图形数据和用于普通OP C建模的数据中挑选一些带有亚分辨率辅助图形但未 印出的数据。 4.如权利要求2所述的方法， 其特征在于： 步骤S2包括主优化回合和子优化回合， 所述 主优化回合包 含以下步骤： S21： 以所述初始计量平面 为基础， 设置多个仿真计量平面； S22： 基于所述初始计量平面得到主评价函数， 以及根据所述拟合数据 得出所述多个仿 真计量平面对应的额外 评价函数； S23： 根据所述主评价 函数以及所述 额外评价函数得出当前主回合的总评价 函数。 5.如权利要求4所述的方法， 其特征在于： 所述仿真计量平面包含对应的阈值， 所述子 优化回合包 含以下步骤： S220： 选择某一个所述仿真计量平面； S221： 根据当前所述仿真计量平面的所述阈值计算出在所述仿真计量平面的当前所述 阈值下的亚分辨 率辅助图形的印出概 率； S222： 根据所述印出概率， 计算出在所述仿真计量平面的当前所述阈值下的子评价函 数； S223： 根据所述拟合数据对所述阈值进行优化， 得到在当前所述仿真计量平面下的优 化子评价函数； S224： 算出其他所述仿真计量平面的优化子评价函数， 并选取最小的优化子评价函数 作为额外评价函数。 6.如权利要求5所述的方法， 其特 征在于： 步骤S2还 包括以下步骤： 当还未完成预设的主优化回合的次数和/或对主评价函数的优化满足预设标准时， 进 行下一主优化回合。 7.如权利要求6所述的方法， 其特 征在于： 步骤S2 23包含以下步骤： S2230： 根据所述拟合数据对所述阈值进行优化， 得到初始中间子 评价函数； 将所述初始中间子评价函数输入预设的优化器中对应调整所述阈值的大小进行迭代 优化， 并得到更小的中间子 评价函数； 当经过预设的迭代优化次数或者对调整所述阈值的大小不能对所述子评价函数进行 满足预设标准的优化时， 得到当前 所述中间子 评价函数为所述优化子 评价函数。 8.如权利要求1所述的方法， 其特征在于： 步骤S23中， 计算总评价函数时， 引入平衡系 数γ， 用于 权衡OPC 模型针对关键尺寸预测 和亚分辨 率辅助图形印出 预测的关系。 9.一种用于实现如权利要求1 ‑8任一项所述方法的装置， 所述装置包括：权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115268204 A 2获取模块： 用于获取掩 模版图的特 征尺寸以及亚分辨 率辅助图形的特 征数据； 预处理模块： 用于对所述 亚分辨率辅助图形的特 征数据进行 预处理； 建模模块： 用于的根据特 征尺寸进行OPC建模； 优化模块： 用于对所述初始OPC模型进行优化。 10.一种计算机设备， 其特征在于： 所述计算机设备包括存储器、 处理器及存储在存储 器上的计算机程序， 所述处理器执行所述计算机程序以实现如权利要求1 ‑8任一项所述方 法。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115268204 A 3