(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221043697.7 (22)申请日 2022.04.29 (73)专利权人 添可智能科技有限公司 地址 215168 江苏省苏州市吴中区石湖西 路108号 (72)发明人 晁福　周春锋　刘咏海　周德化　 (74)专利代理 机构 北京智信禾专利代理有限公 司 11637 专利代理师 王昭智 (51)Int.Cl. A47L 11/292(2006.01) A47L 11/40(2006.01) A61L 2/10(2006.01) (ESM)同样的发明创造已同日申请发明 专利 (54)实用新型名称 清洁系统、 基站 (57)摘要 本公开涉及一种清洁系统、 基站。 其中， 清洁 系统， 包括： 清洁设备， 所述清洁设备包括地刷组 件， 所述地刷组件包括地刷壳体， 以及设置在所 述地刷壳体前侧边缘的滚刷； 基站， 所述基站被 构造为用于放置所述清洁设备； 所述基站的底座 上设置清洗槽， 所述清洗槽被构造为用于容纳至 少部分滚刷； 在所述清洗槽中设置有UV光组件； 所述滚刷在潮湿状态时其面向所述UV光组件的 表面被构造为与所述UV光组件之间具有间隙； 所 述UV光组件发出的光线被配置为通过所述间隙 照射到至少部分所述滚刷的表 面。 本公开的清洁 系统在进行自清洁工作时， 可以实现彻底清洁， 提升了清洁系统的清洁性能， 延长滚刷的使用时 限， 以及有效改善用户使用体验。 权利要求书2页 说明书13页 附图8页 CN 217524972 U 2022.10.04 CN 217524972 U 1.一种清洁系统， 其特 征在于， 包括： 清洁设备(1)， 所述清洁设备(1)包括地刷组件(11)， 所述地刷组件(11)包括地刷壳体 (12)， 以及设置在所述 地刷壳体(12)前侧边 缘的滚刷(13)； 基站(2)， 所述基站(2)被构造为用于放置所述清洁设备(1)； 所述基站(2)的底座(21) 上设置清洗槽(22)， 所述清洗槽(22)被构造为用于容纳至少部分滚刷(13)； 在所述清洗槽 (22)中设置有UV光组件(23)； 所述滚刷(13)在潮湿状态时其面向所述UV光组件(23)的表面 被构造为与所述UV光组件(23)之间具有间隙； 所述UV光组件(23)发出的光线被配置为通过 所述间隙照射到所述滚刷(13)的至少部分表面。 2.根据权利要求1所述的清洁系统， 其特征在于， 所述清洗槽(22)被配置为沿着X轴方 向延伸， 其包括槽底(221)以及位于槽底(221)相对两侧的前槽壁(222)和后槽壁(223)； 所 述UV光组件(23)包括至少两个在X轴方向上排列的UV灯(231)。 3.根据权利要求2所述的清洁系统， 其特征在于， 所述UV光组件(23)包括位于清洗槽 (22)下方的灯板(232)， 所述灯板(232)通过盖板(233)固定在所述清洗槽(22)的下方； 至少 两个UV灯(231)分布在所述灯板(232)上； 还包括至少两个灯罩(234)； 在所述清洗槽(22)上 开设有至少两个用于与所述灯罩(234)配合的通孔； 所述UV灯(231)发出的光线被配置为穿 过所述灯罩(234)照射在所述滚刷(13)的至少部分表面。 4.根据权利要求3所述的清洁系统， 其特征在于， 所述灯罩(234)的外部端面与所述清 洗槽(22)的内壁齐平。 5.根据权利要求2所述的清洁系统， 其特征在于， 沿X轴方向间隔排布的相邻两个所述 UV灯(231)的发光角度交叉点位于所述滚刷(13)对应表 面的外侧或者， 沿X轴方向间隔排布 的相邻两个所述UV灯的发光角度交叉点 位于所述滚刷的对应表面。 6.根据权利 要求2所述的清洁系统， 其特征在于， 所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在 所述清洗槽(22)的槽底(221)， 或者是， 所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽 (22)的前槽壁(222)， 或者是， 所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽(22)的后槽 壁(223)。 7.根据权利 要求6所述的清洁系统， 其特征在于， 所述UV灯(231)的发光角度被配置： 所 述UV灯(231)发出的照射在所述滚刷(13)表 面之外的光线被配置为被地刷壳体(12)遮挡或 者被清洗 槽(22)遮挡。 8.根据权利 要求2所述的清洁系统， 其特征在于， 所述UV灯(231)至少设置有两排， 其中 至少一排所述UV灯(231)沿X轴方 向间隔排列在所述清洗槽(22)的后槽壁(223)； 至少一排 所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗 槽(22)的前槽壁(2 22)。 9.根据权利 要求8所述的清洁系统， 其特征在于， 位于前槽壁(222)上UV灯(231)与位于 所述后槽壁(2 23)上UV灯(231)正对设置或者相互错 开预定的距离 。 10.根据权利要求8所述的清洁系统， 其特征在于， 由所述清洗槽(22)两端至所述清洗 槽(22)中心的方向上， 所述UV灯(231)以逐渐 远离所述清洗 槽(22)的方式布置 。 11.根据权利要求3所述的清洁系统， 其特 征在于， 所述UV灯(231)的发光角度为13 0°。 12.根据权利要求1所述的清洁系统， 其特征在于， 在所述底座(21)上还设置有容纳部 (24)， 在所述容纳部(24)的侧壁上设置有UV光组件(23)， 所述UV光组件(23)发出的光线被 配置为照射在位于所述 容纳部(24)中的附件上。权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 217524972 U 213.根据权利要求1至12任一项所述的清洁系统， 其特征在于， 所述滚刷(13)在干燥状 态时， 其面向所述UV光组件(23)的表面被构造为与所述UV光组件(23)之间具有间隙， 或者 与UV光组件(23)的表面线接触。 14.一种基站， 其特征在于， 所述基站(2)被构造为用于放置清洁设备(1)； 所述基站(2) 的底座(21)上设置清洗槽(22)， 所述清洗槽(22)被构造为用于容纳至少部分滚刷(13)， 所 述滚刷(13)在潮湿状态时其面向UV光组件(23)的表面被构造为与所述UV光组件(23)之间 具有间隙； 在所述清洗槽(22)中设置有UV光组件(23)； 所述UV光组件(23)发出的光线被配 置为通过所述间隙照射到所述滚刷(13)的至少部分表面。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 217524972 U 3