(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211213041.X (22)申请日 2022.09.29 (71)申请人 杭州海康威视数字技 术股份有限公 司 地址 310051 浙江省杭州市滨江区阡 陌路 555号 (72)发明人 钱通　 (74)专利代理 机构 北京柏杉松知识产权代理事 务所(普通 合伙) 11413 专利代理师 马敬　项京 (51)Int.Cl. G06T 3/40(2006.01) G06T 17/00(2006.01) (54)发明名称 一种安检成像方法、 装置、 计算机设备和存 储介质 (57)摘要 本申请实施例提供了一种安检成像方法、 装 置、 计算机设备和存储介质， 通过获取第一天线 阵面对目标对象进行扫描所得的第一初始点云 数据， 以及， 第二初始点云数据由第二天线 阵面 对目标对象进行扫描所得的第二初始点云数据。 进而利用在无目标对象的情况下确定的校正参 数对第一初始点云数据和第二初始点云数据进 行数据修正， 得到第一目标点云数据和第二目标 点云数据。 然后， 将第一目标点云数据和第二目 标点云数据进行拼接， 得到目标对象的三维立体 图像。 由于校正参数是反应出第一天线阵面和第 二天线阵面之间的测量误差， 进而利用该校正参 数可以消除两个天线阵面扫描的误差， 进而实现 点云数据的拼接， 得到准确的目标对象的三维立 体图像。 权利要求书3页 说明书17页 附图6页 CN 115511711 A 2022.12.23 CN 115511711 A 1.一种安检成像方法， 其特 征在于， 包括： 获取第一初始点云数据和第二初始点云数据， 其中， 所述第一初始点云数据由第一天 线阵面对目标对象的正面进行扫描所得， 所述第二初始 点云数据由第二 天线阵面对所述目 标对象的背面进行扫描所 得； 利用校正参数对所述第 一初始点云数据和所述第 二初始点云数据进行数据修正， 得到 第一目标点云数据和 第二目标点云数据； 所述校正参数是根据第一反射数据和 第二反射数 据确定的， 其中， 所述第一反射数据由所述第一 天线阵面对第一反射参照物进 行扫描所得， 所述第二反射数据由所述第二天线阵面对第二反射参照物进 行扫描得到， 所述第一反射参 照物位于所述第二天线阵面上的非天线区域， 所述第二反射参照物位于所述第一 天线阵面 上的非天线区域； 利用所述第 一目标点云数据和所述第 二目标点云数据进行立体拼接， 得到所述目标对 象的三维立体图像。 2.根据权利要求1所述的安检成像方法， 其特 征在于， 所述校正 参数的确定方式， 包括： 获取第一初始反射数据中的第 一反射数据 单元， 将各所述第 一反射数据 单元构成的点 云数据， 作为所述第一反射数据； 其中， 所述第一初始反射数据为所述第一 天线阵面对所述 第一反射参照物进行扫描得到的； 所述第一反射数据单元的反射 强度大于所述第一预设反 射强度阈值； 获取第二初始反射数据中的第 二反射数据 单元， 将各所述第 二反射数据 单元构成的点 云数据， 作为所述第二反射数据； 其中， 所述第二初始反射数据为所述第二 天线阵面对所述 第二反射参照物进行扫描得到的； 所述第二反射数据单元的反射 强度大于所述第一预设反 射强度阈值； 根据所述第 一反射数据和所述第 一反射参照物的标称坐标， 确定所述第 一天线阵面与 所述第二天线阵面之间的第一 误差量； 根据所述第 二反射数据、 所述第 二反射参照物的标称坐标和所述第 二天线阵面中心的 标称坐标， 确定所述第一天线阵面与所述第二天线阵面之间的第二误差量， 并将所述第一 误差量和所述第二 误差量作为所述校正 参数。 3.根据权利要求2所述安检成像方法， 其特征在于， 所述利用校正参数对所述第 一初始 点云数据和所述第二初始点云数据进 行数据修正， 得到第一目标点云数据和 第二目标点云 数据， 包括： 根据所述第 一初始点云数据和所述校正参数的第 一误差量， 确定所述第 一目标点云数 据； 根据所述第二初始点云数据和所述校正 参数的第二 误差量， 确定参 考点云数据； 根据预设的坐标转换关系， 对所述参考点云数据进行坐标转换， 得到所述第二目标点 云数据， 其中， 所述预设的坐标转换关系为所述第一天线阵面和所述第二天线阵面之间的 映射关系。 4.根据权利要求2所述的安检成像方法， 其特征在于， 所述将所述第 一目标点云数据和 所述第二目标点云数据进行立体拼接， 得到所述目标对象的三维立体图像， 包括： 对所述第一目标点云数据进行归一化处理， 得到第一归一化点云数据， 以及对所述第 二目标点云数据进行归一 化处理， 得到第二归一 化点云数据；权　利　要　求　书 1/3 页 2 CN 115511711 A 2将所述第一归一化点云数据和所述第 二归一化点云数据进行立体拼接， 得到所述目标 对象的三维立体图像。 5.根据权利要求4所述的安检成像方法， 其特征在于， 所述对所述第 一目标点云数据进 行归一化处理， 得到第一归一化点云数据， 以及对 所述第二目标点云数据进行归一化处理， 得到第二归一 化点云数据， 包括： 获取所述第 一目标点云数据的第 一反射强度最大值， 以及所述第 二目标点云数据的第 二反射强度最大值； 根据所述第 一目标点云数据中各个数据单元的反射强度和所述第 一反射强度最大值， 确定所述第一归一 化点云数据； 根据所述第 二目标点云数据中各个数据单元的反射强度和所述第 二反射强度最大值， 确定所述第二归一 化点云数据。 6.根据权利要求5所述的安检成像方法， 其特征在于， 所述将所述第 一归一化点云数据 和所述第二归一 化点云数据进行立体拼接， 得到所述目标对象的三维立体图像， 包括： 采用立体拼接的方式将所述第一归一化点云数据和所述第二归一化点云数据中的各 个归一化数据单 元拼接于同一坐标系中， 并对坐标相同的所述归一化数据单元对应的反射强度值进行数据处理， 得到所述目标 对象的三维立体图像。 7.根据权利要求1所述的安检成像方法， 其特征在于， 所述获取第 一初始点云数据和第 二初始点云数据， 包括： 获取第一目标对象点云数据和第二目标对象点云数据； 其中， 所述第一目标对象点云 数据为所述第一 天线阵面对所述目标对象的正面进行扫描 所得， 所述第二目标对象点云数 据为所述第二天线阵面对所述目标对象的背面进行扫描所 得； 获取所述第一目标对象点云数据中的第三反射强度单元； 其中， 所述第三反射数据单 元的反射强度大于所述第二预设反射强度阈值； 将各所述第三反射强度单 元构成的点云数据作为所述第一初始点云数据； 获取所述第二目标对象点云数据中的第 四反射数据单元； 其中， 所述第 四反射数据单 元的反射强度大于所述第二预设反射强度阈值； 将各所述第四反射数据单 元构成的点云数据作为所述第二初始点云数据。 8.一种安检成像装置， 其特 征在于， 包括： 点云获取模块， 用于获取第 一初始点云数据和第 二初始点云数据， 其中， 所述第 一初始 点云数据由第一 天线阵面对目标对象的正面进行扫描 所得， 所述第二初始 点云数据由第二 天线阵面对所述目标对象的背面进行扫描所 得； 修正模块， 用于利用校正参数对所述第 一初始点云数据和所述第 二初始点云数据进行 数据修正， 得到第一 目标点云数据和第二 目标点云数据； 所述校正参数是根据第一反射数 据和第二反射数据确定的， 其中， 所述第一反射数据由所述第一天线阵面对第一反射参照 物进行扫描所得， 所述第二反射数据由所述第二 天线阵面对所述第二反射参照物进行扫描 得到， 所述第一反射参照物位于所述第二天线阵面上 的非天线区域， 所述第二反射参照物 位于所述第一天线阵面上的非 天线区域； 拼接模块， 用于将所述第一目标点云数据和所述第二目标点云数据进行立体拼接， 得权　利　要　求　书 2/3 页 3 CN 115511711 A 3