(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211297578.9 (22)申请日 2022.10.22 (71)申请人 乌海市包钢万腾钢铁有限责任公司 地址 016000 内蒙古自治区乌海市海勃湾 区千里山工业园区 (72)发明人 赵凤俊　黄飞　吴国臣　朱海丰　 李成林　 (51)Int.Cl. G01N 23/223(2006.01) G01N 23/2202(2018.01) G01N 1/28(2006.01) (54)发明名称 一种锰硅合金 元素检测方法 (57)摘要 本发明涉及合金元素检测， 尤其涉及一种锰 硅合金元素检测方法； 具体涉及一种X射线荧光 分析硅锰球合金压片制样的检测方法。 提供一种 锰硅合金元素检测方法。 包括以下步骤： 步骤1、 对合金样品进行二次破碎， 破碎粒度小于3mm； 步 骤2、 使用碳化钨研磨钵研制样品； 步骤3、 压样机 参数设定为压力吨位40吨、 压样时间为20秒； 步 骤4、 制作压片的称样克数为11.5 ±0.1， 符合压 样环样品的填充量， 且称样量恒定一致、 样片薄 厚度一致； 进行压片处理； 步骤5、 采用X ‑射线荧 光光谱仪进行检测。 其采取一系列措施减小基体 效应对压片的干扰影响； 确保数据强度的准确 性。 权利要求书1页 说明书4页 附图7页 CN 115508397 A 2022.12.23 CN 115508397 A 1.一种锰硅合金 元素检测方法， 其特 征在于： 包括以下步骤： 步骤1、 对合金样品进行二次破碎， 破碎粒度小于 3mm； 步骤2、 使用碳 化钨研磨钵研制样品； 步骤3、 压样机参数设定为压力吨位 40吨、 压样时间为20秒； 步骤4、 制作压片的称样克数为11.5 ±0.1， 符合压样环样品的填充量， 且称样量恒定一 致、 样片薄厚度一 致； 进行压片处 理； 步骤5、 采用X ‑射线荧光光谱仪进行检测。 2.根据权利要求1所述的一种锰硅合金元素检测方法， 其特征在于： 还包括步骤6、 通过 经验系数对结果进行 校正。 3.根据权利要求1所述的一种锰硅合金元素检测方法， 其特征在于： 步骤2中， 称取样量 恒重95克使用碳 化钨研磨钵研制样品。 4.根据权利要求1所述的一种锰硅合金元素检测方法， 其特征在于： 步骤4中， 压样环区 分正反面， 确保强度的一 致性。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115508397 A 2一种锰硅合金元素检测方 法 技术领域 [0001]本发明涉及合金元素检测， 尤其涉及一种锰硅合金元素检测方法； 具体涉及一种X 射线荧光分析硅锰球合金压片制样的检测方法。 背景技术 [0002]锰硅合金在炼钢过程中起到重要的脱氧、 脱硫作用。 一般常用的检测方法主要是 手工分析， 此法分析结果相对比较稳定， 但化学繁杂的步骤不仅使用化学药品试剂 较多、 耗 时耗力； 并且同一样品同时分析检测三种元素需要采用三种不同的方法及熔制三种不同的 溶液进行配置 （前期 工作‑酸碱熔融 ‑过滤静止沉淀 ‑酸碱滴定、 比色） 等； 分析出具结果需要 48小时。 [0003]为了缩短检验时间， 也有进行熔片 ‑荧光分析的 （包括烧球法和预氧化 处理铂金坩 埚挂壁法） ， 时长大约1.5小 时。 该方法虽然可以缩短时间、 消除粒度效应、 矿物吸收效应的 影响， 但前期预氧化处理的过程太过复杂、 稍有不慎就会造成铂金坩埚的腐蚀、 造成样品无 法成型、 甚至影响结果的检测分析。 发明内容 [0004]本发明就是针对现有技 术存在的缺陷， 提供一种锰硅合金 元素检测方法。 [0005]为实现上述目的， 本发明采用如下技 术方案， 包括以下步骤： 步骤1、 对合金样品进行二次破碎， 破碎粒度小于 3mm。 [0006]步骤2、 使用碳 化钨研磨钵研制样品。 [0007]步骤3、 压样机参数设定为压力吨位 40吨、 压样时间为20秒。 [0008]步骤4、 制作压片的称样克数为11.5 ±0.1， 符合压样环样品的填充量， 且称样 量恒 定一致、 样片薄厚度一 致。 [0009]进行压片处 理。 [0010]步骤5、 采用X ‑射线荧光光谱仪进行检测。 [0011]采取一系列措施减小基 体效应对压片的干扰 影响； 确保数据强度的准确性。 [0012]进一步地， 还包括步骤6、 通过 经验系数对结果进行 校正。 [0013]进一步地， 步骤2中， 称取样量恒重95克使用碳 化钨研磨钵研制样品。 [0014]进一步地， 步骤4中， 压样环区分正反面， 确保强度的一 致性。 [0015]与现有技 术相比本发明有益效果。 [0016]本发明将锰硅合金的检测方法为锰硅合金压片法； 并提供一种X射线荧光分析硅 锰球合金压片制样分析方法， 并克服基体效应首先从制样过程克服粒度做起分别从： 1、 研 磨钵材质的更换， 2、 研磨样量与时间的参数调整， 3、 压样参数的调整， 4、 X ‑荧光谱线与背 景 参数调整， 5、 经验系数校正法； 采 取一系列措施减小基体效应对压片的干扰影响； 确保数据 强度的准确性。说　明　书 1/4 页 3 CN 115508397 A 3