(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211082254.3 (22)申请日 2022.09.06 (71)申请人 苏州清越光电科技股份有限公司 地址 215300 江苏省苏州市昆山市高新区 晨丰路18 8号 (72)发明人 韦寅帆　郝力强　王勇波　吴磊　 孙鹏举　 (74)专利代理 机构 苏州满天星知识产权代理事 务所(普通 合伙) 32573 专利代理师 王煜 (51)Int.Cl. B08B 3/08(2006.01) B08B 3/12(2006.01) B08B 3/14(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 掩膜版清洗 机构及掩膜版清洗设备 (57)摘要 本发明属于显示面板生产技术领域， 公开了 一种掩膜版清洗机构及掩膜版清洗设备。 该掩膜 版清洗机构包括用于容置清洗液及待清洗的掩 膜版的清洗槽， 其还包括过滤部， 过滤部设置于 清洗槽内， 并浸没在清洗液中， 过滤部呈能够流 通清洗液的多孔结构， 过滤部的表 面覆设有用于 吸附颗粒物的吸附层。 该掩膜版清洗设备包括上 述的掩膜版清洗机构。 在掩膜板清洁作业中， 过 滤部可吸附被清洗液溶解的材料内易存在的金 属或其他材质的颗粒物， 防止该类颗粒物破坏掩 膜板网面， 缓解溶剂冲击下材料中存在的部分不 属于有机物的颗粒物飘荡影响药液质量， 同时， 可减少有机材料区域性溶解度不足导致材料沉 积在掩膜板表面而无法有效溶解的问题。 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 CN 115382834 A 2022.11.25 CN 115382834 A 1.掩膜版清洗机构， 包括用于容置清洗液及待清洗的掩膜版(100)的清洗槽(1)， 其特 征在于， 还 包括： 过滤部(2)， 设置于所述清洗槽(1)内， 并浸没在所述清洗液中， 所述过滤部(2)呈能够 流通清洗液的多孔结构， 所述过 滤部(2)的表面覆设有用于吸附颗粒物的吸附层(3)。 2.根据权利要求1所述的掩膜版清洗机构， 其特征在于， 所述过滤部(2)设置于所述清 洗槽(1)中掩膜版(10 0)置入位置的两侧。 3.根据权利要求1所述的掩膜版清洗机构， 其特征在于， 所述清洗槽(1)包括均与其容 腔连通且分别用于流入和流出清洗液的流入端(101)和流出端(102)， 所述过滤部(2)设置 于所述流入端(101)和/或所述 流出端(102)。 4.根据权利要求1所述的掩膜版清洗机构， 其特征在于， 所述过滤部(2)包括格栅网， 所 述格栅网包括均布有格栅(2 2)的网体(21)， 所述网体(21)表面覆设有所述吸附层(3)。 5.根据权利要求 4所述的掩膜版清洗 机构， 其特 征在于， 所述网体(21)由不锈钢制成。 6.根据权利要求4所述的掩膜版清洗机构， 其特征在于， 所述过滤部(2)包括至少两个 叠置的格栅网， 相邻的所述格栅网的格栅(2 2)交错设置 。 7.根据权利要求4所述的掩膜版清洗机构， 其特征在于， 所述格栅(22)呈方格状， 所述 吸附层(3)由挂附在所述网体(21)上的吸附材料固化形成， 并具有与所述格栅(22)位置对 应的贯通的网孔(31)。 8.根据权利要求7 所述的掩膜版清洗 机构， 其特 征在于， 所述网孔(31)呈漏斗状。 9.根据权利要求7所述的掩膜版清洗机构， 其特征在于， 所述吸附层(3)由石墨烯浆料 固化构成。 10.掩膜版清洗设备， 其特征在于， 包括如权利要求1 ‑9任意一项所述的掩膜版清洗机 构。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115382834 A 2掩膜版清洗机构及掩膜版清洗设 备 技术领域 [0001]本发明涉及显示面板生产技术领域， 尤其涉及一种掩膜版清洗机构及掩膜版清洗 设备。 背景技术 [0002]在有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体面板(Active  matrix  organic light emitting diode， AMOLED)的生产中， 精细 金属掩模版(Fine  Metal Mask， FMM)主要运用于AMOLED段RGB材料的蒸镀所用。 蒸镀工艺中， 蒸镀材料会在精细金属掩模版 (以下简称掩膜版)上沉积， 所以该掩膜版从理论上而言是一种昂贵的易耗品。 为降低生产 成本， 在产线上生产时， 掩膜版在进行 数次蒸镀后都需要 进行清洗 。 [0003]现有的清洗设备多采用将掩膜版浸泡到清洗槽中清洗， 清洗槽中容置有清洗液， 清洗作业中， 借助清洗槽内的超声波发生器使清洗液高频振动， 沉积在掩膜版网面上 的膜 层会不断脱落形成杂质， 上述杂质包括悬浮于清洗液中的有机物颗粒和金属颗粒等， 上述 有机颗粒在区域性溶解度不足时会导致二次沉积在掩膜版网面， 同时， 由于掩膜版本身非 常脆弱， 上述杂质中的金属颗粒及其他不属于有机物的颗粒物飘荡会影响药液质量， 且破 坏掩膜版网面。 [0004]因此， 上述问题亟 待解决。 发明内容 [0005]本发明的目的在于提供一种掩膜版清洗机构及掩膜版清洗设备， 以在掩膜版清洗 过程中， 改善掩膜版网面 沉积物残留及网面被破坏的问题。 [0006]为达此目的， 本发明采用以下技 术方案： [0007]掩膜版清洗机构， 包括用于容置清洗液及待清洗 的掩膜版的清洗槽， 其还包括过 滤部， 过滤部 设置于所述清洗槽内， 并浸没在所述清洗液中， 所述过滤部呈能够流通清洗液 的多孔结构， 所述过 滤部的表面覆设有用于吸附颗粒物的吸附层。 [0008]作为优选， 所述过 滤部设置 于所述清洗 槽中掩膜版置入位置的两侧。 [0009]作为优选， 所述清洗槽包括均与其容腔 连通且分别用于流入和流出清洗液的流入 端和流出端， 所述过 滤部设置 于所述流入端和/或所述 流出端。 [0010]作为优选， 所述过滤部包括格栅网， 所述格栅网包括均布有格栅的网体， 所述网体 表面覆设有所述吸附层。 [0011]作为优选， 所述网体由不锈钢制成。 [0012]作为优选， 所述过滤部包括至少两个叠置 的格栅网， 相邻的所述格栅网的格栅交 错设置。 [0013]作为优选， 所述格栅呈方格状， 所述吸附层由挂附在所述网体上的吸附材料固化 形成， 并具有与所述格栅 位置对应的贯 通的网孔。 [0014]作为优选， 所述网孔呈漏斗状。说　明　书 1/4 页 3 CN 115382834 A 3