(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222292391.1 (22)申请日 2022.08.30 (73)专利权人 苏州高视半导体技 术有限公司 地址 215153 江苏省苏州市高新区嘉陵江 路198号1 1幢9层90 3室、 904室 (72)发明人 不公告发明人 　 (74)专利代理 机构 北京维昊知识产权代理事务 所(普通合伙) 11804 专利代理师 李波　孙新国 (51)Int.Cl. G01N 21/95(2006.01) G01N 21/01(2006.01) (54)实用新型名称 晶圆检测系统 (57)摘要 本申请是关于一种晶圆检测系统。 该系统包 括： 照明装置、 探测装置以及载物台； 照明装置包 括明场照明装置以及暗场照明装置； 探测装置中 设有明场探测器以及暗场探测器； 载物台上放置 有待测晶圆； 明场探测器的进光端设有第一滤光 片， 第一滤光片用于滤出待测晶圆的第一反射光 线， 第一反射光线为明场照明装置的光线照射在 待测晶圆上反射的光线； 暗场探测器的进光端设 有第二滤光片， 第二滤光片用于滤出待测晶圆的 第二反射光线， 第二反射光线为暗场照明装置的 光线照射在待测晶圆上反射的光线。 本申请提供 的方案， 能够同时对晶圆进行明场成像和暗场成 像， 满足晶圆缺陷检测的需求。 权利要求书2页 说明书7页 附图2页 CN 217605699 U 2022.10.18 CN 217605699 U 1.一种晶圆检测系统， 其特 征在于， 包括： 照明装置 （1） 、 探测装置 （2） 以及载物台 （3） ； 所述照明装置 （1） 包括明场照明装置 （1 1） 以及暗场照明装置 （12） ； 所述探测装置 （2） 中设有明场探测器 （21） 以及暗场探测器 （2 2） ； 所述载物台 （3） 上放置有 待测晶圆 （31） ； 所述明场探测器 （2 1） 的进光端设有第一滤光片 （23） ， 所述第一滤光片 （23） 用于滤出所 述待测晶圆 （31） 的第一反射光线， 所述第一反射光线为所述明场照明装置 （11） 的光线照射 在所述待测晶圆 （31） 上反射的光线； 所述暗场探测器 （22） 的进光端设有第二滤光片 （24） ， 所述第二滤光片 （24） 用于滤出所 述待测晶圆 （31） 的第二反射光线， 所述第二反射光线为所述暗场照明装置 （12） 的光线照射 在所述待测晶圆 （31） 上反射的光线。 2.根据权利要求1所述的 晶圆检测系统， 其特 征在于， 所述探测装置 （2） 包括第一 光线传输通道 （25） 以及第二 光线传输通道 （26） ； 所述第一光线传输通道 （25） 的一端设有微分干涉棱镜 （27） 以及显微物镜 （28） ， 另一端 设有所述明场探测器 （21） ； 所述第二光线传输通道 （26） 的一端与所述第一光线传输通道 （25） 的通道侧壁的连通， 另一端设有所述暗场探测器 （2 2） 。 3.根据权利要求2所述的 晶圆检测系统， 其特 征在于， 所述明场照明装置 （11） 包括LED光源 （111） 、 透镜组 （112） 以及第三光线传输通道 （113） ； 所述透镜组 （112） 的一端设有所述LED光源 （111） ， 所述透镜组 （112） 用于将所述LED光 源 （111） 整形为第一输入光源， 所述第一输入光源为发散角为1 1°的光源； 所述透镜组 （112） 的另一端与所述第三 光线传输通道 （1 13） 的一端连通； 所述第三光线传输通道 （113） 的另一端与所述第一光线传输通道 （25） 的通道侧壁连 通， 使得所述第一输入光源能够通过所述第三光线传输通道 （113） 传输至所述第一光线传 输通道 （25） 中。 4.根据权利要求3所述的 晶圆检测系统， 其特 征在于， 所述透镜组 （112） 的另一端与所述第三 光线传输通道 （1 13） 的一端垂直连通； 所述透镜组 （112） 与所述第三光线传输通道 （113） 的连通位置处设有光源反光镜 （114） ； 所述光源反光镜 （114） 的镜面与水平面之间的夹角为45 °， 使得所述第一输入光源能够 通过所述光源反光镜 （1 14） 反射进入所述第三 光线传输通道 （1 13） 。 5.根据权利要求3所述的 晶圆检测系统， 其特 征在于， 所述第三光线传输通道 （113） 内设有起偏器 （115） ， 所述起偏器 （115） 用于将所述第一 输入光源整形为第二输入光源， 所述第二输入光源为发散角为1 1°的偏振光源。 6.根据权利要求5所述的 晶圆检测系统， 其特 征在于， 所述第一光线传输通道 （25） 与所述第三光线传输通道 （113） 的连通位置处设有第一半 透半反射镜 （251） ； 所述第一 光线传输通道 （25） 与水平面垂直， 且所述载物台 （3） 的台面与水平面平行；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 217605699 U 2所述第一半透半反射镜 （251） 与水平面之间的夹角等于所述第一光线传输通道 （25） 与 所述第三光线传输通道 （113） 之间夹角的一半， 使得所述第二输入光源能够经过所述第一 半透半反射镜 （251） 的反射， 依次透过所述微分干涉棱镜 （27） 以及所述显微物镜 （28） 照射 所述待测晶圆 （31） 。 7.根据权利要求6所述的 晶圆检测系统， 其特 征在于， 所述第二光线传输通道 （26） 与所述第一光线传输通道 （25） 的连通位置处设有第二半 透半反射镜 （252） ； 所述第二半透半反射镜 （252） 与水平面之间的夹角等于所述第一光线传输通道 （25） 与 所述第二光线传输通道 （26） 之间夹角的一半， 使 得所述待测晶圆 （31） 的晶圆反射光线能够 经过所述第二半透半反射镜 （252） 的反射， 传输至所述第二光线传输通道 （26） 中， 透过所述 第二滤光片 （24） 进入所述暗场探测器 （2 2） 。 8.根据权利要求7 所述的晶圆检测系统， 其特 征在于， 所述第一 光线传输通道 （25） 中还设有检偏器 （2 9） ； 所述第二半透半反射镜 （252） 设置于所述第一半透半反射镜 （251） 和所述检偏器 （29） 之间； 所述检偏器 （29） 用于滤出所述晶圆反射光线中的偏振态光线， 使得所述偏振态光线 能够透过 所述第一滤光片 （23） 进入所述明场探测器 （21） 。 9.根据权利要求1所述的 晶圆检测系统， 其特 征在于， 所述暗场照明装置 （12） 包括激光发生器 （121） 、 激光束整形器 （122） 以及激光反射镜片 （123） ； 所述激光束整形器 （122） 与所述激光发生器 （121） 连接， 所述激光束整形器 （122） 用于 对所述激光发生器 （121） 产生的激光进行聚集整形， 得到整形激光束； 所述激光反射镜片 （123） 用于对所述整形激光束进行反射， 使得所述整形激光束照射 在所述待测晶圆 （31） 上。 10.根据权利要求1所述的 晶圆检测系统， 其特 征在于， 还 包括： 自动对焦装置 （4） ； 所述自动对焦装置包括对焦激光发射器 （41） 、 对焦激光接收器 （42） 以及升降轴 （43） ； 所述对焦激光发射器 （41） 和对焦激光接收器 （42） 用于确定对焦高度参数； 所述升降轴 （43） 与所述探测装置 （2） 连接； 或 所述升降轴与所述载物台 （3） 连接； 所述升降轴 （43） 用于调节所述探测装置 （2） 与所述载物台 （3） 之间的相对距离 。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 217605699 U 3