(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222504487.X (22)申请日 2022.09.22 (73)专利权人 中国科学院长春光学精密机 械与 物理研究所 地址 130033 吉林省长 春市经济技 术开发 区东南湖大路38 88号 (72)发明人 杨晋　冯树龙　陈佳奇　王明佳　 孙慈　宋楠　王金雨　赵梓彤　 王添一　 (74)专利代理 机构 长春中科长光知识产权代理 事务所(普通 合伙) 22218 专利代理师 郭婷 (51)Int.Cl. G01J 3/28(2006.01) G01J 3/02(2006.01)G01N 21/25(2006.01) G01N 21/01(2006.01) G01V 8/00(2006.01) (54)实用新型名称 宽波段高光谱检测装置 (57)摘要 本实用新型涉及光谱检测技术领域， 特别涉 及一种宽波段高光谱检测装置， 包括： 成像系统、 位移系统、 光源、 被测平台、 温度湿度控制器和暗 箱箱体； 暗箱箱体用于提供暗场环境， 温度湿度 控制器安装在暗箱箱体外部的一侧， 用于提供恒 温恒湿环境； 位移系统位于暗箱箱体的内部， 被 测平台安装在位移系统上， 被测物 放置在被测平 台上， 通过位移系统实现被测物在Y轴方向和Z轴 方向上的位移运动； 被测平台的正上方悬空放置 光源， 光源发出的测量光束对被测物进行照射， 反射出的测量光束入射至成像系统得到光谱图 像； 成像系统安装在暗箱箱体的顶端。 本实用新 型能够实现在400n m‑1700nm波长下同时成像， 具 有温度可控、 光照均匀稳定、 精密调焦的优点。 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 CN 217716662 U 2022.11.01 CN 217716662 U 1.一种宽波段高光谱检测装置， 其特征在于， 包括： 成像系统、 位移系统、 光源、 被测平 台、 温度湿度控制器和暗箱 箱体； 所述暗箱箱体用于提供暗场环境， 所述温度湿度控制器安装在所述暗箱箱体外部的一 侧， 用于提供恒温恒湿环境； 在所述暗箱箱体外部的另一侧安装有开关， 用于控制所述检测 装置的开启与关闭； 所述位移系统位于所述暗箱箱体的内部， 所述被测平台安装在所述位移系统上， 被测 物放置在所述被测平台上， 通过所述位移系统实现所述被测物在Y轴方向和Z轴方向上的位 移运动； 所述被测平台的正上方悬空放置所述光源， 所述光源发出的测量光束对所述被测物进 行照射， 反射出 的测量光束入射至所述成像系统得到光谱图像； 所述成像系统安装在所述 暗箱箱体的顶端。 2.根据权利要求1所述的宽波段高光谱检测装置， 其特征在于， 所述位移系统包括： 电 控位移台、 丝杠导轨、 蓄电池和电机； 所述蓄电池位于所述暗箱箱体的底部， 用于为所述电机供电， 所述电机位于所述丝杠 导轨的上 方， 用于带动所述电控位移台进行运动； 所述电控位移台用于实现在Z轴方向上的位移运动； 所述丝杠导轨用于实现在Y轴方向 上的位移运动。 3.根据权利要求2所述的宽波段高光谱检测装置， 其特征在于， 所述暗箱箱体的底部安 装有电动万向轮， 用于实现便携式移动。 4.根据权利要求3所述的宽波段高光谱检测装置， 其特征在于， 所述光源为DOME可调谐 功率的高功率穹顶光源。 5.根据权利要求4所述的宽波段高光谱检测装置， 其特征在于， 所述成像系统包括： 第 一高光谱成像仪和第二高光谱成像仪； 所述第一高光谱成像仪和所述第 二高光谱成像仪对称悬挂在所述暗箱箱体的顶端， 用 于接收所述被测物反射出的测量 光束并进行成像。 6.根据权利要求5所述的宽波段高光谱检测装置， 其特征在于， 所述第 一高光谱成像仪 为400nm‑1000nm高光谱成像仪， 所述第二高光谱成像仪为90 0nm‑1700nm高光谱成像仪 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217716662 U 2宽波段高光谱检测装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及光谱检测技 术领域， 特别涉及一种宽波段高光谱检测装置 。 背景技术 [0002]成像光谱仪是一种有效的定量探测工具， 得益于其可通过高空间分辨率和高光谱 分辨率同时获取探测目标 的三维立方体数据的能力， 使得成像光谱仪在测绘遥感、 目标识 别、 环境监测与评估、 临床影像诊断、 过程监控等领域应用极为广泛。 尤其在垃圾分选等领 域， 需要进行400nm ‑1700nm的全谱综合分析， 因此为减小环 境因素干扰且省时省力， 并方便 进行宽波段的光谱分析， 一套标准 化的高光谱检测装置 显得尤为重要。 [0003]高光谱成像是对被测物反射率进行分析， 因此对光照质量要求较高， 目前现有实 验室环境下的400nm ‑1700nm高光谱测试实验往往会分开做， 首先对400nm ‑1000nm的数据进 行采集， 然后再进行900nm ‑1700nm的数据采集， 通过数台高功 率卤素钨灯光源打光， 以及调 节龙门架高度和调焦环调焦， 整个实验环境温度、 湿度、 电磁干扰等不可控。 现在的解决方 法就是尽量人为将光照打均匀， 通过调节龙门架高度和调焦环调焦， 控制实验室温度从而 间接控制实验环境温度， 并物理进行电磁隔离将有电磁干扰的仪器器件隔开， 实验数据可 复现性差 。 实用新型内容 [0004]鉴于上述问题， 本实用新型的目的是提出一种宽波段高光谱检测装置， 解决了 400nm‑1000nm高光谱成像仪和900nm ‑1700nm高光谱成像仪不能同时工作， 且暗噪声随温度 变化， 被测物体受照不均匀的环境问题， 本实用新型可以提高高光谱检测过程中的工作效 率， 能够实现在400nm ‑1700nm波长下同时成像， 省时省力， 操作便捷， 并提供标准化的高光 谱成像检测环境， 实验数据具有可复现性。 具有温度可控、 光照均匀稳定、 精密调焦的优点。 [0005]为实现上述目的， 本实用新型采用以下 具体技术方案： [0006]本实用新型提供一种宽波段高光谱检测装置， 包括： 成像系统、 位移系统、 光源、 被 测平台、 温度湿度控制器和暗箱 箱体； [0007]暗箱箱体用于提供暗场环境， 温度湿度控制器安装在暗箱箱体外部 的一侧， 用于 提供恒温恒湿环境； 在暗箱箱体外部的另一侧 安装有开关， 用于控制检测装置的开启与关 闭； [0008]位移系统位于暗箱箱体的内部， 被测平台安装在位移系统上， 被测物放置在被测 平台上， 通过位移系统实现被测物在Y轴方向和Z轴方向上的位移运动； [0009]被测平台的正上方悬空放置光源， 光源发出的测量光束对被测物进行照射， 反射 出的测量 光束入射至成像系统得到光谱图像； 成像系统安装在暗箱 箱体的顶端。 [0010]优选地， 位移系统包括： 电控位移台、 丝杠导轨、 蓄电池和电机； [0011]蓄电池位于暗箱箱体的底部， 用于为电机供电， 电机位于丝杠导轨的上方， 用于带 动电控位移台进行运动；说　明　书 1/3 页 3 CN 217716662 U 3